8月9日，據了解到，拓荊科技股份有限公司（下稱“拓荊科技”）科創板IPO進入“已問詢”狀態。

拓荊科技主要從事高端半導體專用設備的研發、生產、銷售和技術服務。公司聚焦的半導體薄膜沉積設備與光刻機、刻蝕機共同構成芯片制造三大核心設備。公司主要產品包括等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備、原子層沉積（ALD）設備和次常壓化學氣相沉積（SACVD）設備三個產品系列，已廣泛應用于國內晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產線，并已展開10nm及以下制程產品驗證測試。

財務數據顯示，公司2018年、2019年、2020年、2021年前三月營收分別為7，064.40萬元、2.51億元、4.36億元、5，774.10萬元;同期分別虧損1.03億元、1，936.64萬元、1，169.99萬元、1，058.92萬元。

發行人選擇的上市標準為《上海證券交易所科創板股票發行上市審核規則》第三章第二十二條第（四）項：預計市值不低于人民幣30億元，且最近一年營業收入不低于人民幣3億元。

本次擬募資用于高端半導體設備擴產項目、先進半導體設備的技術研發與改進項目、ALD設備研發與產業化項目、補充流動資金。

拓荊科技背靠國家大基金、國投上海、中微公司，2019年1月至本招股說明書簽署日，發行人無控股股東和實際控制人，不存在發行人控股股東、實際控制人控制其他企業的情況。

值得一提的是，拓荊科技今年7月12日科創板IPO獲上交所受理，8月6日獲問詢，前后不到一個月。